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粒度粒形檢測(cè)儀粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展

更新時(shí)間:2017-10-16      點(diǎn)擊次數(shù):1825
  粒度粒形檢測(cè)儀粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展
  
  粒度粒形檢測(cè)儀主要特點(diǎn):
  
  精心設(shè)計(jì)的進(jìn)樣裝置易于拆卸、方便清洗
  
  專為大顆粒設(shè)計(jì)的樣品輸送系統(tǒng)無(wú)損耗
  
  *的光路設(shè)計(jì)確保聚焦精度,并可消除小顆粒邊緣效應(yīng)
  
  通過(guò)高分辨CMOS得到高清晰顆粒圖像
  
  粒度粒形檢測(cè)儀粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展
  
  近年來(lái)粒度粒形顆粒測(cè)試技術(shù)進(jìn)展很快,表現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:
  
  1)粒度粒形檢測(cè)儀激光粒度測(cè)試技術(shù)更加成熟,激光衍射/散射技術(shù),現(xiàn)在已經(jīng)成為顆粒測(cè)試的主流.其主要特點(diǎn):測(cè)試速度快,重復(fù)性好,分辨率高,測(cè)試范圍廣得到了進(jìn)一步的發(fā)揮.激光粒度分析技術(shù)zui近幾年的主要進(jìn)展在于提高分辨率和擴(kuò)大測(cè)量范圍.探測(cè)器尺寸增加,附加探頭的使用擴(kuò)大了測(cè)量范圍;多種激光光源的使用、多鏡頭、會(huì)聚光路、多量程、可移動(dòng)樣品窗的使用提高了分辨率,采樣速度的提高則進(jìn)一步改善了儀器的重復(fù)性.目前激光粒度分析儀在技術(shù)上,已經(jīng)達(dá)到了相當(dāng)成熟的階段.
  
  米氏理論模型可以提高儀器的分辨率,但是需要事先了解被測(cè)樣品的折射率和吸收系數(shù),才可能獲得正確的結(jié)果.
  
  測(cè)試結(jié)果的優(yōu)劣不僅取決于測(cè)試系統(tǒng)和計(jì)算模型,更加取決于樣品的分散狀態(tài).粒度粒形檢測(cè)儀對(duì)樣品的分散要求是,分散而不分離.儀器廠家應(yīng)更加注意樣品分散系統(tǒng)設(shè)計(jì).盡量避免小顆粒團(tuán)聚,大顆粒沉降,大小顆粒離析,樣品輸運(yùn)過(guò)程的損耗,外界雜質(zhì)的侵入.對(duì)于不同樣品選用不同的分散劑和不同的分散操作應(yīng)該引起測(cè)試者的注意.
  
  任何原理的儀器測(cè)試范圍都不是可以無(wú)限擴(kuò)展的.靜態(tài)光散射原理的激光粒度分析向納米顆粒的擴(kuò)展和向毫米方向的擴(kuò)展極限值得探討.毫米級(jí)的顆粒只需光學(xué)成像技術(shù)就可以輕易解決的測(cè)量問(wèn)題采用激光散射原理則并不是優(yōu)勢(shì)所在.

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